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J-GLOBAL ID：200902196559875132   Reference number：01A0207529

High-concentration ozone generator for oxidation of silicon operating at atmospheric pressure.

大気圧で作動するシリコン酸化用の高濃度オゾン発生装置

Author (4)： KOIKE K (Iwatani International Corp., Shiga, JPN) ,  FUKUDA T (Iwatani International Corp., Shiga, JPN) ,  ICHIMURA S (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  KUROKAWA A (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
Material： Review of Scientific Instruments  (Rev Sci Instrum)
Volume： 71  Issue： 11  Page： 4182-4187  Publication year： Nov. 2000 
JST Material Number： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Ozone ,...

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JST classification (2)： Gas chemical industry  (YB02070O) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： 大気圧 ,  シリコン ,  酸化 ,  高濃度 ,  オゾン発生装置