Art

J-GLOBAL ID：200902198111599170   Reference number：94A0571475

Cleanliness evaluation of environment and materials of semiconductor production process by ICP-MS.

ICP-MS法による半導体製造プロセス環境・材料の清浄度評価

Author (1)： SAKAKIBARA TAKAAKI (住化分析セ)
Material： 空気清浄  (コンタミネーションコントロール)
Volume： 32  Issue： 1  Page： 47-56  Publication year： May. 1994 
JST Material Number： G0779A  ISSN： 0023-5032  CODEN： KUSEBF  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： ICP-MS analysis ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0571475&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0779A") }}

JST classification (2)： Environmental pollution in general  (SB01000C) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： ICP ,  MS法 ,  半導体製造プロセス ,  環境 ,  清浄度 ,  評価