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J-GLOBAL ID：200902200147355115   Reference number：07A0441763

Structural and Ferroelectric Properties of Bi₄Ti₃O₁₂/TiO₂ Thin Films Prepared by Two-Dimensional RF Magnetron Sputtering

二次元RFマグネトロンスパッタリングにより作製したBi₄Ti₃O₁₂/TiO₂薄膜の構造と誘電特性

Author (5)： MASAYA Hiroaki (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  INADA Naoko (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  HIGUCHI Tohru (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  HATTORI Takeshi (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  TSUKAMOTO Takeyo (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
Material： Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Trans Mater Res Soc Jpn)
Volume： 32  Issue： 1  Page： 15-18  Publication year： Mar. 2007 
JST Material Number： L4468A  ISSN： 1382-3469  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： titanium oxide ,...
Semi thesaurus term： *bismuth titanate ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Ferroelectrics,antiferroelectrics and ferroelasticity  (BM05030B)

Reference (23)：

• T. Kijima, M. Ushikubo and H. Matsunaga: Jpn. J. Appl. Phys. 38(1999) 127.
• T. Kijima, S. Satoh, H. Matsunaga and M. Koba: Jpn. J. Appl. Phys. 35(1996) 1246.
• T. Kijima and H. Matsunaga: Jpn. J. Appl. Phys. 37(1998) 5171.
• T. Kijima and H. Matsunaga: Jpn. J. Appl. Phys. 38(1999) 2281.
• T. Kijima, Y. Kawashima, Y. Idemoto and H. Ishiwara: Jpn. J. Appl. Phys. 41(2002) L1164.

Terms in the title (5)： RFマグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  TiO2 ,  薄膜 ,  誘電特性