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J-GLOBAL ID：200902203912395936   Reference number：08A0596544

Micro-machining of Resists on Silicon by Proton Beam Writing: Part 2 (Fabrication of 3-D Structures Using a Negative resist)

陽子ビーム書き込みによるシリコン上レジストのマイクロマシニング:パート2(ネガレジストを用いた3D構造の作製)

Author (10)： UCHIYA N. (Shibaura Inst. Technol.) ,  FURUTA Y. (Shibaura Inst. Technol.) ,  NISHIKAWA H. (Shibaura Inst. Technol.) ,  HAGA J. (JAEA) ,  SATOH T. (JAEA) ,  OIKAWA M. (JAEA) ,  OHKUBO T. (JAEA) ,  ISHII Y. (JAEA) ,  KAMIYA T. (JAEA) ,  YAMAMOTO S. (JAEA)
Material： 日本原子力研究開発機構JAEA-Review
Page： 196  Publication year： Mar. 2008 
JST Material Number： L2149A  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,  *proton beam ,  resist ,  lithography
Semi thesaurus term： *machining

JST classification (2)： Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X) ,  Radiation polymer chemistry  (CG03050S)

Terms in the title (9)： 陽子ビーム ,  書き込み ,  シリコン ,  レジスト ,  マイクロマシニング ,  パート ,  ネガレジスト ,  3D ,  作製