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J-GLOBAL ID：200902206381609439   Reference number：09A0040105

Modeling of Oxygen-Inhibited Free Radical Photopolymerization in a PDMS Microfluidic Device

PDMSマイクロ流体素子内での酸素禁止ラジカル光重合のモデリング

Author (6)： DENDUKURI Dhananjay (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  PANDA Priyadarshi (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  HAGHGOOIE Ramin (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  KIM Ju Min (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  HATTON T. Alan (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  DOYLE Patrick S. (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts)
Material： Macromolecules
Volume： 41  Issue： 22  Page： 8547-8556  Publication year： Nov. 25, 2008 
JST Material Number： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *fluid device ,  polydimethylsiloxane ,  radical polymerization ,  *photopolymerization ,  crosslinking polymerization ,  oxygen ,  polymerization retarder ,  oligomer ,  queuing time ,  scaling law ,  diffusion ,  Damkoehler number ,  analytical model ,  numerical calculation ,  *polyethylene glycol diacrylate ,  photoinitiator ,  film thickness ,  polyacrylate ,  *microfluidic device ,  macromonomer
Semi thesaurus term： macromer

JST classification (1)： Homopolymerization  (CG04020S)

Substance index (1)： α-Hydroxy-α-methylpropiophenone

Terms in the title (7)： PDMS ,  マイクロ流体素子 ,  酸素 ,  禁止 ,  ラジカル ,  光重合 ,  モデリング