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J-GLOBAL ID：200902209589866400   Reference number：08A0242908

Novel base-sensitive polymers generating amino groups from their side chains in a nonlinear manner and their application to photoimaging materials

非線形方法で側鎖からアミノ基を生成する新しい塩基感受性高分子とその光画像材料への応用

Author (4)： IGARASHI Akira (Dainippon Ink and Chemicals, Inc., Gunma, JPN) ,  ARIMITSU Koji (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  SEKI Takahiro (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ICHIMURA Kunihiro (Toho Univ., Chiba, JPN)
Material： Journal of Materials Chemistry  (J Mater Chem)
Volume： 18  Issue： 5  Page： 560-566  Publication year： Feb. 07, 2008 
JST Material Number： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photoresist ,  amino group ,  base (alkali) ,  sensitivity ,  *photobase generator ,  autocatalysis ,  polymer ,  radical polymerization ,  ultraviolet irradiation ,  heat treatment

JST classification (2)： Other reactions of polymer  (CG03040H) ,  Photochemical reactions  (CB08020F)

Substance index (2)： Methacrylic acid 2-isocyanatoethyl ,  9H-Fluorene-9-methanol

Terms in the title (7)： 非線形 ,  側鎖 ,  アミノ基 ,  塩基 ,  感受性 ,  高分子 ,  応用