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J-GLOBAL ID：200902213179268367   Reference number：09A1196816

PLD法による硫黄ドープチタン酸化物薄膜の合成と評価(その2)

Author (5)： MURAMATSU ATSUSHI (東北大 多元物質科研) ,  SATO NOBUAKI (東北大 多元物質科研) ,  KANIE KIYOSHI (東北大 多元物質科研) ,  TAKAHASHI HIDEYUKI (東北大 多元物質科研) ,  YOSHINAGA MASAKI (三井化学)
Material： 硫酸と工業  (Sulphuric Acid and Industry)
Volume： 62  Issue： 11  Page： 163-169  Publication year： Nov. 15, 2009 
JST Material Number： F0507A  ISSN： 0370-8047  CODEN： RYUSAZ  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *laser deposition ,  pulsed laser irradiation ,  catalyst design ,  *photocatalyst ,  *titanium oxide ,  metallic thin film ,  sulfur ,  doping ,  *chemical synthesis ,  chemical composition ,  process control ,  thin film growth ,  *characterization ,  laser ablation ,  nitrogen ,  nickel ,  supported catalyst ,  catalytic activity ,  *oxide film ,  *pulsed laser deposition
Semi thesaurus term： *PLD method ,  *oxide film ,  *characterization ,  film formation

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Photochemical reactions  (CB08020F)

Reference (7)：

• J. Cuya, N. Sato, K. Yamamoto, A. Muramatsu, K. Aoki, Y. Taga, Thermochim. Acta, 410, 27(2004).
• T. Nakamura, H. Takahashi, K. Yamamoto, N. Sato, A. Muramatsu, and E. Matsubara, YazawaInternational Symposium, Metallurgical andMaterials Processing: Principles and Technologies, Edited by F. Kongoli, K. Itagaki, C. Yamauchi, and H. Y. Sohn, 1241-1246, USA, TMS (TheMinerals, Metals & Materials Society)(2003)
• P. E. Dyer and J. Sidhu, J. Appl. Phys., 64, 4657(1988).
• D. B. Geohegan, Appl. Phys. Lett., 60, 2732(1992).
• M. Anpo and M. Che, Adv. Catal., 44, 119(1999).

Terms in the title (6)： PLD法 ,  硫黄 ,  ドープ ,  チタン ,  酸化物薄膜 ,  評価