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J-GLOBAL ID：200902213442416341   Reference number：09A0970641

Synthesis of Polysilanes by Tunneling Reactions of H Atoms with Solid Si₂H₆ at 10 K

10KにおけるH原子の固体Si₂H₆とのトンネリング反応によるポリシランの合成

Author (5)： SOGOSHI Norihito (Saitama Univ.) ,  SATO Shoji (Yamanashi Univ.) ,  TAKASHIMA Hideaki (Yamanashi Univ.) ,  SATO Tetsuya (Yamanashi Univ.) ,  HIRAOKA Kenzo (Yamanashi Univ.)
Material： Chemistry Letters  (Chem Lett)
Volume： 38  Issue： 10  Page： 986-987 (J-STAGE)  Publication year： 2009 
JST Material Number： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *polysilane ,  *chemical synthesis ,  disilane ,  tunnel effect ,  real time processing ,  infrared absorption spectrum ,  quantitative analysis (analytical chemistry) ,  reaction product ,  synthetic intermediate ,  network structure ,  potential barrier ,  activation energy ,  binding energy ,  radical reaction ,  insertion reaction ,  cleavage reaction ,  Hydrogen ,  rate-limiting ,  thermal desorption spectrum ,  FT-IR spectrum
Semi thesaurus term： real time processing ,  rate determining step

JST classification (1)： Nonmetallic compounds  (CD01070R)

Reference (20)：

• JASINSKI, J. M. Annu. Rev. Phys. Chem. 1987, 38, 109
• TONOKURA, K. Curr. Opin. Solid Stata Mater. Sci. 2002, 6, 479
• BECERRA, R. J. Phys. Chem. 1987, 91, 5765
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• BECERRA, R. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1995, 91, 2723

Terms in the title (5)： H原子 ,  固体 ,  Si2H6 ,  トンネリング ,  ポリシラン