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J-GLOBAL ID：200902218907867797   Reference number：06A0935064

Novel polymeric anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding polymers for 193 nm lithography

新規な高分子アニオン光酸発生剤(PAG)と193nmリソグラフィー用の相当高分子

Author (7)： WANG Mingxing (Univ. North Carolina, North Carolina, USA) ,  JARNAGIN Nathan D (Univ. North Carolina, North Carolina, USA) ,  LEE Cheng-Tsung (Georgia Inst. Technol., GA, USA) ,  HENDERSON Clifford L (Georgia Inst. Technol., GA, USA) ,  YUEH Wang (Intel Corp., OR, USA) ,  ROBERTS Jeanette M (Intel Corp., OR, USA) ,  GONSALVES Kenneth E (Univ. North Carolina, North Carolina, USA)
Material： Journal of Materials Chemistry  (J Mater Chem)
Volume： 16  Issue： 37  Page： 3701-3707  Publication year： Oct. 07, 2006 
JST Material Number： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photoacid generator ,...
Semi thesaurus term： 添加効果

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Physical properties of polymer solids  (CG02024U)

Substance index (7)： Triphenylsulfonium ,  Triphenylsulfonium・4-vinylbenzenesulfonate ,  Methacrylic acid 4-sulfonato-2,3,5,6-tetrafluorophenyl・triphenylsulfonium ,  Triphenylsulfonium・4-(isobutyryloxy)benzenesulfonate ,  Triphenylsulfonium・2,3,5,6-tetrafluoro-4-(isobutyryloxy)benzenesulfonate ,  GBLMA ,  Methacrylic acid 2-ethyl-2-adamantyl ester

Terms in the title (4)： 高分子アニオン ,  光酸発生剤 ,  リソグラフィー ,  高分子