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J-GLOBAL ID：200902220372867118   Reference number：03A0486583

Thermal Desorption Behavior of AlF₃ Formed on Al₂O₃

Al₂O₃上に形成されたAlF₃の熱脱着の挙動

Author (7)： WATANABE M (NGK INSULATORS, LTD., Nagoya, JPN) ,  IIDA T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  AKIYAMA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ISHIKAWA T (NGK INSULATORS, LTD., Nagoya, JPN) ,  SAKAI H (NGK INSULATORS, LTD., Nagoya, JPN) ,  SAWABE K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SHOBATAKE K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 42  Issue： 6B  Page： L680-L682  Publication year： Jun. 15, 2003 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *aluminum fluoride ,...

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JST classification (1)： Solid-gos interface in general.  (CB12041H)

Reference (14)：

• 1) S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagaharma, I. Naruhito, T. Matsushita and T. Mukai: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 22.
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Terms in the title (4)： Al2O3 ,  AlF3 ,  熱脱着 ,  挙動