Art

J-GLOBAL ID：200902223962890580   Reference number：08A0676335

PLD法によるWO₃系エレクトロクロミック薄膜の大面積化

Author (6)： TANAKA HIROKI (大分大 工) ,  KUBO YOSHIHIRO (大分大 工) ,  TORII YUKI (大分大 工) ,  BANDO TAKAAKI (トッパン・フォームズ) ,  AKAMINE SHUICHI (大分大 工) ,  OKUBO TOSHIKAZU (大分大 工)
Material： 応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集
Volume： 33  Page： 19  Publication year： Dec. 01, 2007 
JST Material Number： L1487A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： pulsed laser irradiation ,  *laser deposition ,  *tungsten oxide ,  *electrochromic display ,  thin film ,  *area ,  target ,  substrate(plate) ,  distance ,  plume ,  indium tin oxide ,  film defect ,  heterogeneity ,  interference fringe ,  *pulsed laser deposition
Semi thesaurus term： ITO ,  *PLD method ,  flooding ,  *large area

JST classification (2)： Other solid-state devices  (NC03150A) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (3)： PLD法 ,  薄膜 ,  大面積