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J-GLOBAL ID：200902225171491413   Reference number：04A0856956

Electro-Chemical Mechanical Polishing of Silicon Carbide

炭化けい素の電気化学機械研磨

Author (4)： LI C (Rensselaer Polytechnic Inst., NY) ,  BHAT I B (Rensselaer Polytechnic Inst., NY) ,  WANG R (Rensselaer Polytechnic Inst., NY) ,  SEILER J (Rensselaer Polytechnic Inst., NY)
Material： Journal of Electronic Materials  (J Electron Mater)
Volume： 33  Issue： 5  Page： 481-486  Publication year： May. 2004 
JST Material Number： D0277B  ISSN： 0361-5235  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon carbide ,...
Semi thesaurus term： ECMP【研磨】

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Other surface treatment  (WC08070F)

Terms in the title (2)： 炭化けい素 ,  電気化学機械研磨