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J-GLOBAL ID：200902226235444054   Reference number：07A0441765

Effect of TiO₂ Anatase Layer for Bi₄Ti₃O₁₂ Thin Film Prepared on La_0.05Sr_0.95TiO₃ Substrate

La_0.05Sr_0.95TiO₃基板上に作製したBi₄Ti₃O₁₂薄膜に対するTiO₂アナターゼ層の影響

Author (6)： KONISHI Mitsuru (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  HIGUCHI Tohru (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  SAKAIRI Hiroyuki (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  OSAKI Ryusuke (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  HATTORI Takeshi (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN) ,  TSUKAMOTO Takeyo (Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
Material： Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Trans Mater Res Soc Jpn)
Volume： 32  Issue： 1  Page： 23-26  Publication year： Mar. 2007 
JST Material Number： L4468A  ISSN： 1382-3469  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *thin film ,...
Semi thesaurus term： ceramic board ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (17)：

• S. E. Cummins and L. E. Cross: J. Appl. Phys. 39(1968) 2268.
• T. Takenaka and K. Sakata: Jpn. J. Appl. Phys. 19(1980) 31.
• R. Ramesh, K. Luther, B. Wilkens, D. L. Hart, E. Wang and J. M. Trascon: Appl. Phys. Lett. 57(1990) 1505.
• H. Esaki: Integrat. Ferroelectr. 14(1997) 11.
• T. Kijima, M. Ushikubo and H. Matsunaga: Jpn. J. Appl. Phys. 38(1999) 127.

Terms in the title (4)： 作製 ,  薄膜 ,  TiO2 ,  アナターゼ