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J-GLOBAL ID：200902226801241603   Reference number：06A0568709

Interfacial intermixing of TiN/Si₃N₄ super-hard multilayer films studied by fluorescence x-ray absorption fine structure

蛍光X線吸収微細構造により調べたTiN/Si₃N₄超硬多層膜に関する界面混合

Author (6)： PAN Zhiyun (Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN) ,  SUN Zhihu (Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN) ,  XIE Zhi (Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN) ,  XU Junhua (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  KOJIMA Isao (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  WEI Shiqiang (Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN)
Material： Journal of Physics. D. Applied Physics  (J Phys D)
Volume： 39  Issue： 13  Page： 2796-2802  Publication year： Jul. 07, 2006 
JST Material Number： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *superhard material ,...
Semi thesaurus term： 蛍光XAFS

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (6)： 蛍光 ,  X線吸収微細構造 ,  TiN ,  Si3N4 ,  多層膜 ,  界面