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J-GLOBAL ID：200902229960981668   Reference number：08A1055804

SiO₂/Si(100) Interfacial Lattice Strain Studied by Extremely Asymmetric X-ray Diffraction

極端非対称X線回折で研究したSiO₂/Si(100)界面格子歪

Author (8)： YOSHIDA Hironori (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  AKIMOTO Koichi (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ITO Yuki (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  EMOTO Takashi (Toyota National Coll. Technol., Aichi, JPN) ,  YAMAMOTO Naoya (IHI Corp., Yokohama, JPN) ,  YAMAMOTO Naoya (Meiji Univ., Kawasaki, JPN) ,  OSHITA Yoshio (Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN) ,  OGURA Atsushi (Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
Material： Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Trans Mater Res Soc Jpn)
Volume： 33  Issue： 3  Page： 603-605  Publication year： Sep. 2008 
JST Material Number： L4468A  ISSN： 1382-3469  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： grazing incidence ,  *X-ray diffraction ,  *silicon oxide ,  silicon ,  synchrotron radiation ,  oxygen ,  *lattice distortion ,  wafer ,  *interface(surface) ,  *oxide film ,  high pressure ,  *oxidation ,  strain field ,  temperature dependence ,  pressure effect
Semi thesaurus term： Si substrate ,  *高圧酸化

JST classification (3)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Surface structure of solids in general  (BK15010E) ,  Mechanical properties of solids in general  (BL01021C)

Reference (6)：

• L. Romano, R. De Bastiani, C. Miccoli, G. Bisognin, E. Napolitani, D. De Salvador and M. G. Grimaldi, Mater. Sci. Eng. B., 135(2006) 220-223.
• T. Emoto, K. Akimoto, A. Ichimiya, Surf. Sci., 438(1999) 107-115.
• T. Emoto, Y. Ishikawa, K. Akimoto, A. Ichimiya, Surf. Sci., 493(2001) 221-226.
• T. Emoto, K. Akimoto, A. Ichimiya, K. Hirose, Appl. Surf. Sci., 190(2002) 113-120.
• T. Emoto, K. Akimoto, Y. Yoshida, A. Ichimiya, T. Nabatame, A. Toriumi, Appl. Surf. Sci., 244(2005) 55-60.

Terms in the title (7)： 非対称 ,  X線回折 ,  研究 ,  SiO2 ,  Si ,  界面 ,  格子歪