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J-GLOBAL ID：200902230253819518   Reference number：03A0728720

X-Ray Evaluation of SiO₂/Cu/TiN Films Deposited by Ion Plating

イオン・プレーティング法により形成したSiO₂/Cu/TiN積層膜のX線的評価

Author (4)： MATSUE TATSUYA (新居浜工高専) ,  HANABUSA TAKAO (徳島大 工) ,  IKEUCHI YASUKAZU (新居浜工高専) ,  KUSAKA KAZUYA (徳島大 工)
Material： 材料  (Journal of the Society of Materials Science, Japan)
Volume： 52  Issue： 10  Page： 1231-1236  Publication year： Oct. 15, 2003 
JST Material Number： F0385A  ISSN： 0514-5163  CODEN： ZARYA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： ion implantation ,...
Semi thesaurus term： titanium nitride

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JST classification (1)： Semiconductor integrated circuit  (NC03162T)

Reference (14)：

• PINTSCHOVIUS, L. Z. Metallkd. 2001, 92, 275
• 平方寛之. 日本材料学会第50期学術講演会講演論文集, 2001. 2001, 137
• HOHL, F. Surf. Coat. Technol. 1992, 54/55, 160
• BULL, S. J. Surf. Coat. Technol. 1992, 54/55, 173
• 権田俊一監修. 薄膜作製応用ハンドブック. 1997, 226

Terms in the title (8)： イオン ,  プレーティング法 ,  SiO2 ,  Cu ,  TiN ,  積層膜 ,  X線 ,  評価