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J-GLOBAL ID：200902231169206221   Reference number：08A0710518

A Novel Methodology for Model-Based OPC Verification

モデルベースOPC検証のための新しい方法

Author (5)： HUANG TengYen (NANYA Technol. Corp.) ,  LIAO ChunCheng (NANYA Technol. Corp.) ,  CHOU Ryan (Mentor Graphics Corp., Hsin-Chu, TWN) ,  LIAO Hung-Yueh (Mentor Graphics Corp., Hsin-Chu, TWN) ,  SCHACHT Jochen (Mentor Graphics Corp., Hsin-Chu, TWN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 6922  Issue： Pt.2  Page： 69222F.1-69222F.10  Publication year： 2008 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： lithography ,  *allowable range ,  *resist ,  *model ,  calibration ,  design
Semi thesaurus term： *process window ,  *calibration ,  *optical proximity correction

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： モデルベースOPC ,  検証