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J-GLOBAL ID：200902236592979123   Reference number：03A0338374

TiO2 Sputtered Film Growth using Active particles in Plasma.

プラズマ中の活性粒子を用いたTiO2スパッタ膜の形成
Author (1)：
SHIBATA AKIRA

About SHIBATA AKIRA

(福井工大)

About 福井工大


Material：
福井工業大学研究紀要  (Memoirs of Fukui University of Technology)

About 福井工業大学研究紀要


Issue： 33 第1部  Page： 297-303  Publication year： Mar. 20, 2003 
JST Material Number： X0305A  ISSN： 0286-8571  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)
Thesaurus term：
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*dielectric thin film

About dielectric thin film

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JST classification (1)：
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Oxide thin films 
(BK14050P)

About Oxide thin films

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プラズマ

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活性粒子

About 活性粒子

, 
TiO2

About TiO2

, 
スパッタ膜

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