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J-GLOBAL ID：200902240451076534   Reference number：07A0204494

次世代プロセスに対応する半導体製造装置と材料〈半導体製造装置・周辺機器〉次世代半導体プロセス向け薬液

Author (3)： SHIMADA KENJI (三菱ガス化学 東京研 エレクトロニックケミカルズR&Dセ) ,  YAGUCHI KAZUYOSHI (三菱ガス化学 東京研 エレクトロニックケミカルズR&Dセ) ,  ABE KOJIRO (三菱ガス化学 東京研 エレクトロニックケミカルズR&Dセ)
Material： 電子材料  (Electronic Parts and Materials)
Volume： 46  Issue： 3  Page： 60-64  Publication year： Mar. 01, 2007 
JST Material Number： F0040A  ISSN： 0387-0774  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： semiconductor device ,...
Semi thesaurus term： high-k material ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Semiconductor integrated circuit  (NC03162T)

Terms in the title (5)： 次世代 ,  プロセス ,  半導体製造装置 ,  周辺機器 ,  半導体プロセス