Art

J-GLOBAL ID：200902240728780862   Reference number：03A0321713

A Photocurable Poly(dimethylsiloxane) Chemistry Designed for Soft Lithographic Molding and Printing in the Nanometer Regime.

ナノメートル領域におけるソフトリソグラフィー造型及び印刷用に設計した光硬化性ポリジメチルシロキサン化学

Author (2)： CHOI K M (Lucent Technol., New Jersey) ,  ROGERS J A (Lucent Technol., New Jersey)
Material： Journal of the American Chemical Society  (J Am Chem Soc)
Volume： 125  Issue： 14  Page： 4060-4061  Publication year： Apr. 09, 2003 
JST Material Number： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *polydimethylsiloxane ,...
Semi thesaurus term： *photocrosslinking

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0321713&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0254A") }}

JST classification (1)： Other reactions of polymer  (CG03040H)

Substance index (2)： Methacrylic acid 2-isocyanatoethyl ,  Ethyldiisopropylamine

Terms in the title (6)： ソフトリソグラフィー ,  造型 ,  設計 ,  光硬化 ,  ポリジメチルシロキサン ,  化学