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J-GLOBAL ID：200902241547795570   Reference number：04A0543827

Fabrication of Polycrystalline Silicon Field Emitter Arrays with Hafnium Carbide Coating for Thin-Film-Transistor Controlled Field Emission Displays

薄膜トランジスタ制御の電界放出ディスプレイ用として炭化ハフニウムをコートした多結晶シリコン電界エミッタアレイの作製

Author (6)： NAGAO M (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  SACHO Y (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  SATO T (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  MATSUKAWA T (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  KANEMARU S (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  ITOH J (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 43  Issue： 6B  Page： 3919-3922  Publication year： Jun. 30, 2004 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *field emission array ,...

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JST classification (2)： Thermoionic emission and field emission  (BM09020S) ,  Display equipment  (NC06030Q)

Reference (14)：

• 1) T. Hirano, S. Kanemaru and J. Itoh: Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996) L861.
• 2) M. Nagao, Y. Tamura, K. Tokunaga, T. Matsukawa, S. Kanemaru and J. Itoh: J. Vac. Sci. & Technol. B 20 (2002) 2309.
• 3) J. Itoh and S. Kanemaru: Inf. Display 14 (1998) 12.
• 4) H. S. Uh, S. J. Kwon and J. D. Lee: J. Vac. Sci. & Technol. B 15 (1997) 472.
• 5) S. E. Huq, M. Huang, P. R. Wilshaw and P. D. Prewett: J. Vac. Sci. & Technol. B 16 (1998) 796.

Terms in the title (7)： 薄膜トランジスタ ,  電界放出ディスプレイ ,  炭化ハフニウム ,  コート ,  多結晶シリコン ,  電界エミッタアレイ ,  作製