Art

J-GLOBAL ID：200902242177337825   Reference number：09A0431030

Optimum Optics for Die-to-Wafer-like Image Mask Inspection

ダイ-ウエハ様画像マスク検査のための最適光学系

Author (4)： TAKADA Akira (Topcon Corp., Tokyo, JPN) ,  TAKADA Akira (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN) ,  TOJO Toru (Topcon Corp., Tokyo, JPN) ,  SHIBUYA Masato (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN)
Material： Optical Review  (Opt Rev)
Volume： 16  Issue： 2  Page： 59-65  Publication year： Apr. 01, 2009 
JST Material Number： L2272A  ISSN： 1340-6000  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： optical system ,  optimization ,  *photomask ,  *testing of optical component ,  wafer ,  electromagnetic field analysis ,  mode coupling ,  approximation method ,  flaw inspection ,  image analysis ,  real time processing ,  phase shift ,  laser scanner ,  circularly polarized light ,  *photolithography ,  partial coherence ,  numerical aperture ,  inspection system ,  modification ,  *mask
Semi thesaurus term： RCWA ,  *マスク検査光学系

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (13)：

• TAKADA, A. Proc. SPIE. 2006, 6152, 1344
• TAKADA, A. Proc. SPIE. 2008, 6922, 692229
• TAKADA, A. Opt. Rev. 2007, 14, 384
• ZIBOLD, A. M. Proc. SPIE. 2005, 5645, 223
• ZIBOLD, A. Proc. SPIE. 2006, 6152, 61522F

Terms in the title (4)： ダイ ,  ウエハ ,  マスク検査 ,  光学系