Art

J-GLOBAL ID：200902247881737300   Reference number：08A0341200

CHF₃プラズマの解析(2)-電子輸送係数RF周期応答の圧力依存性-

Author (4)： SAITO RYUSUKE (北大) ,  SUGAWARA HIROTAKE (北大) ,  SAKAI YOSUKE (北大) ,  SUDA YOSHIYUKI (北大)
Material： 電気学会全国大会講演論文集  (Annual Meeting Record, I.E.E. Japan)
Volume： 2008  Issue： 1  Page： 249  Publication year： Mar. 19, 2008 
JST Material Number： S0653A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma ,  analysis ,  *transport coefficient ,  plasma etching ,  fron ,  HF ,  *pressure effect
Semi thesaurus term： *pressure dependence ,  *電子輸送係数 ,  high frequency

JST classification (1)： Plasma in general  (BJ02010B)

Terms in the title (7)： プラズマ ,  解析 ,  電子輸送係数 ,  RF ,  周期 ,  応答 ,  圧力依存性