Art

J-GLOBAL ID：200902247922836474   Reference number：07A0820271

Stabilization of higher-κ tetragonal HfO2 by SiO2 admixture enabling thermally stable metal-insulator-metal capacitors

熱安定金属-絶縁体-金属コンデンサを可能にするSiO₂混合による高κ正方晶系HfO₂の安定化

Author (11)： BOESCKE T. S. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  GOVINDARAJAN S. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  KIRSCH P. D. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  HUNG P. Y. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  KRUG C. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  LEE B. H. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  HEITMANN J. (Qimonda Dresden GmbH & Co. OHG, Koenigsbruecker Str. 180, 01099 Dresden, DEU) ,  SCHROEDER U. (Qimonda Dresden GmbH & Co. OHG, Koenigsbruecker Str. 180, 01099 Dresden, DEU) ,  PANT G. (Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, Richardson, Texas 75080) ,  GNADE B. E. (Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, Richardson, Texas 75080) ,  KRAUTSCHNEIDER W. H. (Technical Univ. of Hamburg-Harburg, Dep. of Nanoelectronics, 21071 Hamburg, DEU)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 91  Issue： 7  Page： 072902-072902-3  Publication year： Aug. 13, 2007 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： MIM structure ,...
Semi thesaurus term： *MIM capacitor

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JST classification (1)： LCR parts  (NA05030D)

Terms in the title (7)： 絶縁体 ,  コンデンサ ,  SiO2 ,  高 ,  正方晶系 ,  HfO2 ,  安定化