Art

J-GLOBAL ID：200902248233370766   Reference number：04A0600946

Approaching the numerical aperture of water-Immersion lithography at 193nm

193nmにおける水イマーションリソグラフィーの開口数へのアプローチ

Author (6)： SMITH B W (Rochester Inst. Technol., NY) ,  BOUROV A (Rochester Inst. Technol., NY) ,  FAN Y (Rochester Inst. Technol., NY) ,  ZAVYALOVA L (Rochester Inst. Technol., NY) ,  LAFFERTY N (Rochester Inst. Technol., NY) ,  CROPANESE F (Rochester Inst. Technol., NY)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 5377  Issue： Pt.1  Page： 273-284  Publication year： 2004 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 文献レビュー  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,...
Semi thesaurus term： イマーションリソグラフィー

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (2)： 水 ,  開口数