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J-GLOBAL ID：200902252221111347   Reference number：03A0233236

Consideration for the double diffusion process simulation technique.

2重拡散プロセスシミュレーション手法に関する考察

Author (4)： ABE TAKUJI (東北学院大 工) ,  YAMAGUCHI HIDEO (オリジン電気) ,  SUGAWARA FUMIHIKO (東北学院大 工) ,  ONUMA KOICHI (東北学院大 工)
Material： 東北学院大学工学部研究報告  (Science and Engineering Reports of Tohoku Gakuin University, Japan)
Volume： 37  Issue： 2  Page： 3-7  Publication year： Feb. 2003 
JST Material Number： S0937A  ISSN： 0286-5904  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *impurity semiconductor ,...
Semi thesaurus term： double diffusion

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JST classification (1)： Diffusion in solids in general  (BL06021L)

Terms in the title (3)： 2重拡散 ,  プロセスシミュレーション ,  手法