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J-GLOBAL ID：200902252634153285   Reference number：09A0862956

硬X線光電子分光による有機分子表面修飾Siナノ粒子の電子状態の研究

Author (8)： IMAMURA MASAKI (神戸大 工) ,  NAKAMURA JUN (神戸大 工) ,  FUJIMASA SHUJI (神戸大 工) ,  YASUDA HIDEHIRO (神戸大 工) ,  UEDA SHIGENORI (物質・材料研究機構) ,  YAMASHITA YOSHIYUKI (物質・材料研究機構) ,  YOSHIKAWA HIDEKI (物質・材料研究機構) ,  KOBAYASHI KEISUKE (物質・材料研究機構)
Material： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
Volume： 64  Issue： 2 第4分冊  Page： 635  Publication year： Aug. 18, 2009 
JST Material Number： S0671B  ISSN： 1342-8349  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： hard X-ray ,  X-ray photoelectron spectroscopy ,  *surface modification ,  nano particle ,  *electronic state ,  emission spectrum ,  synchrotron radiation ,  *silicon
Semi thesaurus term： surface modification

JST classification (1)： Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X)

Terms in the title (7)： 硬X線光電子分光 ,  有機分子 ,  表面修飾 ,  Si ,  ナノ粒子 ,  電子状態 ,  研究