The Effect of Photoresist/Topcoat Properties on Defect Formation in Immersion Lithography

WALLRAFF G. M.; LARSON C. E.; BREYTA G.; SUNDBERG L.; MILLER D.; GIL D.; PETRILLO K.; PIERSON W.

Art

J-GLOBAL ID：200902252634328328 Reference number：06A0578543

The Effect of Photoresist/Topcoat Properties on Defect Formation in Immersion Lithography

液浸リソグラフィーにおける欠陥形成に対するフォトレジスト/トップコートの特性の効果

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Volume： 6153 Issue： Pt.1 Page： 61531M.1-61531M.10 Publication year： 2006
JST Material Number： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG Document type： Proceedings
Article type：原著論文 Country of issue： United States (USA) Language： ENGLISH (EN)

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Manufacturing technology of solid-state devices

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