Art

J-GLOBAL ID：200902254586022168   Reference number：09A1098661

Amplification of Reflected X-ray Beams by the Mirage Effect

蜃気楼効果による反射X線ビームの増幅

Author (9)： FUKAMACHI Tomoe (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  HIRANO Kenji (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  YOSHIZAWA Masami (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  NEGISHI Riichirou (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  JU Dongying (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  TOHYAMA Masahiko (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  KANEMATSU Yoshinobu (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  HIRANO Keiichi (KEK-PF, Ibaraki) ,  KAWAMURA Takaaki (Univ. Yamanashi, Kofu)
Material： Journal of the Physical Society of Japan  (JPSJ)
Volume： 78  Issue： 10  Page： 103001.1-103001.4  Publication year： Oct. 15, 2009 
JST Material Number： G0509A  ISSN： 0031-9015  CODEN： JUPSA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： effect ,  *X-ray reflection ,  single crystal ,  silicon ,  absorption coefficient ,  crystal ,  electric field ,  *beam technique ,  angle of incidence ,  *amplification phenomenon ,  electric field effect ,  X-ray beam ,  bent crystal
Semi thesaurus term： 蜃気楼効果 ,  ビーム伝搬

JST classification (1)： Measurement and instruments of radiation in general  (AD08010Y)

Reference (9)：

• 1) A. Authier: in Dynamical Theory of X-ray Diffraction (Oxford University Press, Oxford, U.K., 2001).
• 2) H. Yan and I. C. Noyan: J. Appl. Crystallogr. 39 (2006) 320.
• 3) H. Yan, Ö. Kalenci, and I. C. Noyan: J. Appl. Crystallogr. 40 (2007) 322.
• 4) T. Fukamachi, M. Tohyama, Ken. Hirano, M. Yoshizawa, R. Negishi, D. Ju, Kei. Hirano, and T. Kawamura: to be published in Acta Crystallogr., Sect. A.
• 5) J. Gronkowski and C. Malgrange: Acta Crystallogr., Sect. A 40 (1984) 507.

Terms in the title (2)： X線ビーム ,  増幅