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J-GLOBAL ID：200902256744714083   Reference number：05A0391918

Microfabrication of 3D silicon MEMS structures using gray-scale lithography and deep reactive ion etching

グレースケールリソグラフィーと深い反応性イオンエッチングを用いた三次元シリコンMEMS構造体の微細加工

Author (4)： WAITS C. M. (Univ. Maryland, MD, USA) ,  MORGAN B. (Univ. Maryland, MD, USA) ,  KASTANTIN M. (Univ. Maryland, MD, USA) ,  GHODSSI R. (Univ. Maryland, MD, USA)
Material： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sens Actuators A)
Volume： A119  Issue： 1  Page： 245-253  Publication year： Mar. 28, 2005 
JST Material Number： B0345C  ISSN： 0924-4247  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： gray scale ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： 反応性イオンエッチング ,  シリコン ,  MEMS ,  構造体 ,  微細加工