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J-GLOBAL ID：200902259717017450   Reference number：07A0383763

塗布光照射法を用いた蛍光体酸化物薄膜の低温製膜プロセスの開発

Author (3)： NAKAJIMA TOMOHIKO (産業技術総合研) ,  TSUCHIYA TETSUO (産業技術総合研) ,  KUMAGAI TOSHIYA (産業技術総合研)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 54th  Issue： 3  Page： 1521  Publication year： Mar. 27, 2007 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *phosphor ,...

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JST classification (1)： Luminescence of inorganic compounds  (BM08093J)

Terms in the title (7)： 光照射 ,  蛍光体 ,  酸化物薄膜 ,  低温 ,  製膜 ,  プロセス ,  開発