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J-GLOBAL ID：200902263599813260   Reference number：03A0395457

Formation of electron internal transport barrier and achievement of high ion temperature in Large Helical Device.

Large Helikal Deviceにおける電子内部輸送障壁の形成および高イオン温度の達成

Author (9)： TAKEIRI Y (National Inst. Fusion Sci., Toki, JPN) ,  SHIMOZUMA T (National Inst. Fusion Sci., Toki, JPN) ,  KUBO S (National Inst. Fusion Sci., Toki, JPN) ,  MORITA S (National Inst. Fusion Sci., Toki, JPN) ,  NOTAKE T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  AKIYAMA T (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  GONCHAROV P (Graduate Univ. Advanced Studies, Hayama, JPN) ,  KAWAZOME H (Kyoto Univ., Uji, JPN) ,  NOZATO H (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
Material： Physics of Plasmas  (Phys Plasmas)
Volume： 10  Issue： 5,Pt.2  Page： 1788-1795  Publication year： May. 2003 
JST Material Number： T0641B  ISSN： 1070-664X  CODEN： PHPAEN  Document type： Article
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (3)： 電子 ,  内部輸送障壁 ,  イオン温度