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J-GLOBAL ID：200902264914442132   Reference number：06A0578505

All-organic Non-PFOS Nonionic Photoacid Generating Compounds with Functionalized Fluoroorganic Sulfonate Motif for Chemically Amplified Resists

化学増幅レジスト用の官能化した弗素有機スルホン酸エステルモチーフを持つ全有機非PFOS非イオン性光酸発生化合物

Author (6)： AYOTHI Ramakrishnan (Cornell Univ., NY) ,  YI Yi (Cornell Univ., NY) ,  OBER Christopher K. (Cornell Univ., NY) ,  PUTNA Steve (Intel Corp., OR) ,  YUEH Wang (Intel Corp., OR) ,  CAO Heidi (Intel Corp., OR)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 6153  Issue： Pt.1  Page： 61530J.1-61530J.7  Publication year： 2006 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： imide ,...
Semi thesaurus term： ラインエッジ粗さ ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (9)： 化学増幅レジスト ,  官能化 ,  弗素 ,  有機スルホン酸 ,  エステル ,  モチーフ ,  PFOS ,  非イオン性 ,  酸