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J-GLOBAL ID：200902267903994728   Reference number：07A0567844

Production and reactivity of the hydroxyl radical in homogeneous high pressure plasmas of atmospheric gases containing traces of light olefins

僅少の軽いオレフィンを含む大気ガスの均質高圧プラズマにおけるヒドロキシルラジカルの生成と反応度

Author (4)： MAGNE L (Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA) ,  PASQUIERS S (Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA) ,  BLIN-SIMIAND N (Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA) ,  POSTEL C (Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA)
Material： Journal of Physics. D. Applied Physics  (J Phys D)
Volume： 40  Issue： 10  Page： 3112-3127  Publication year： May. 21, 2007 
JST Material Number： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： gas discharge ,...
Semi thesaurus term： transient ,...

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JST classification (1)： Applications of plasma  (BJ02110K)

Substance index (2)： Ethane ,  Ethylene

Terms in the title (6)： オレフィン ,  大気ガス ,  高圧 ,  プラズマ ,  ヒドロキシルラジカル ,  反応度