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J-GLOBAL ID：200902268445722523   Reference number：07A1107877

Structure of Polyphenylsilsesquioxane Particles Prepared by Two-Step Acid-Base Catalyzed Sol-Gel Process and Formation of Hollow Particles

酸-塩基二段階触媒ゾル-ゲル法と中空粒子形成により作製したポリフェニルシルセスキオキサン粒子の構造

Author (6)： TAKAHASHI Kenji (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TADANAGA Kiyoharu (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  HAYASHI Akitoshi (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  MATSUDA Atsunori (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  KATAGIRI Kiyofumi (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  TATSUMISAGO Masahiro (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
Material： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (J Nanoscience Nanotechnology)
Volume： 7  Issue： 9  Page： 3307-3312  Publication year： Sep. 2007 
JST Material Number： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *polymer ,...
Semi thesaurus term： *ポリフェニルシルセスキオキサン ,...

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JST classification (1)： Crystal growth of organic compounds  (BK13070E)

Terms in the title (8)： 酸 ,  塩基 ,  段階 ,  触媒 ,  ゾル-ゲル法 ,  中空粒子 ,  作製 ,  ポリフェニルシルセスキオキサン