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J-GLOBAL ID：200902269925772250   Reference number：04A0272201

High-Purity Sputtering Target Materials

高純度スパッタリングターゲット材の開発
Author (2)：
HAN G

About HAN G

(日立金属 冶金研)

About 日立金属 冶金研

, 
UENO TOMONORI

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(日立金属 安来工場)

About 日立金属 安来工場


Material：
日立金属技報  (Hitachi Metals Technical Review)

About 日立金属技報


Volume： 20  Page： 57-62  Publication year： Jan. 2004 
JST Material Number： Y0878A  ISSN： 0916-0930  CODEN： HIKGE3  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)
Thesaurus term：
Thesaurus term/Semi thesaurus term
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*high purity metal

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Semi thesaurus term：
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熱プラズマ液滴精練

About 熱プラズマ液滴精練


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JST classification (2)：
JST classification
Category name(code) classified by JST.
Refining 
(WD02040L)

About Refining

,  Sputtering 
(BK16110U)

About Sputtering

Terms in the title (3)：
Terms in the title
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高純度

About 高純度

, 
スパッタリングターゲット材

About スパッタリングターゲット材

, 
開発

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