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J-GLOBAL ID：200902272068553328   Reference number：04A0439667

A hybrid multijunction photoelectrode for hydrogen production fabricated with amorphous silicon/germanium and iron oxide thin films

非晶質シリコン/ゲルマニウムと酸化鉄の薄膜で製作した水素生産用ハイブリッド多接合光電極

Author (3)： MILLER E L (Hawaii Natural Energy Inst., Univ. Hawaii, HI, USA) ,  ROCHELEAU R E (Hawaii Natural Energy Inst., Univ. Hawaii, HI, USA) ,  KHAN S (Duquesne Univ., USA)
Material： International Journal of Hydrogen Energy  (Int J Hydrogen Energy)
Volume： 29  Issue： 9  Page： 907-914  Publication year： Aug. 2004 
JST Material Number： B0192B  ISSN： 0360-3199  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： amorphous semiconductor ,...
Semi thesaurus term： forbidden band

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JST classification (2)： Electrochemical reaction  (CB07050F) ,  Manufacturing of gaseous fuels  (YE02030F)

Terms in the title (7)： 非晶質シリコン ,  ゲルマニウム ,  酸化鉄 ,  薄膜 ,  製作 ,  水素 ,  光電極