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J-GLOBAL ID：200902272433901810   Reference number：05A0573084

Epitaxial growth of tin oxide films on (001) TiO2 substrates by KrF and XeCl excimer laser annealing

KrFならびにXeClエキシマレーザアニーリングによる酸化すず薄膜の(001)TiO₂基板上のエピタキシャル成長

Author (4)： TSUCHIYA T. (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN) ,  WATANABE A. (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN) ,  KUMAGAI T. (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN) ,  MIZUTA S. (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN)
Material： Applied Surface Science  (Appl Surf Sci)
Volume： 248  Issue： 1-4  Page： 118-122  Publication year： Jul. 30, 2005 
JST Material Number： B0707B  ISSN： 0169-4332  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *tin oxide ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Laser irradiation effects and damages  (BK16040S)

Substance index (2)： Acetylacetone ,  Butane-1-ide

Terms in the title (6)： エキシマレーザ ,  アニーリング ,  酸化すず ,  薄膜 ,  TiO2 ,  エピタキシャル成長