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J-GLOBAL ID：200902276885165696   Reference number：09A1270751

希土類酸化物薄膜の将来展望

Author (2)： MIYAZAKI HIDETOSHI (分子科学研 極端紫外光研究施設) ,  KIMURA SHIN'ICHI (分子科学研 極端紫外光研究施設)
Material： 機能材料  (Function & Materials)
Volume： 30  Issue： 1  Page： 55-61  Publication year： Dec. 05, 2009 
JST Material Number： Y0021A  ISSN： 0286-4835  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *europium oxide ,  *ferromagnetic semiconductor ,  semiconductor thin film ,  magnetic thin film ,  functional material ,  spintronics ,  single crystal ,  rare earth element compound ,  *MBE growth ,  RHEED ,  low energy electron diffraction ,  *magnetization characteristic ,  ferromagnetism ,  magnetic transition ,  *electronic state ,  angle resolved spectroscopy ,  *photoelectron spectrum ,  exchange interaction

JST classification (4)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Magnetic domain and magnetization process in general  (BM06111M) ,  Electronic structure of crystalline semiconductors  (BM02060N) ,  Magnetic materials  (NA04040H)

Terms in the title (3)： 希土類 ,  酸化物薄膜 ,  将来展望