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J-GLOBAL ID：200902279115817970   Reference number：07A1222913

A New Algorithm for Die-to-Wafer-like Image Mask Inspection in Real Time

ダイ対ウエハ様画像マスク実時間検査のための新しいアルゴリズム

Author (4)： TAKADA Akira (Topcon Corp., Tokyo, JPN) ,  TAKADA Akira (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN) ,  TOJO Toru (Topcon Corp., Tokyo, JPN) ,  SHIBUYA Masato (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN)
Material： Optical Review  (Opt Rev)
Volume： 14  Issue： 6  Page： 384-394  Publication year： Dec. 01, 2007 
JST Material Number： L2272A  ISSN： 1340-6000  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *wafer ,...
Semi thesaurus term： PSM

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JST classification (2)： Optical information processing  (BD03060T) ,  Measurement,testing and reliability of solid-state devices  (NC03040G)

Reference (12)：

• KIM, B. G. Proc. SPIE. 2002, 4754, 517
• PANG, L. Proc. SPIE. 2003, 5256, 461
• HSU, L. T. H. Proc. SPIE. 2004, 5567, 36
• VALLIUS, T. J. Opt. Soc. Am. A. 2002, 19, 1129
• KETTUNEN, V. J. Opt. Soc. Am. A. 2001, 18, 1257

Terms in the title (6)： ダイ ,  ウエハ ,  マスク ,  実時間 ,  検査 ,  アルゴリズム