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J-GLOBAL ID：200902281996676600   Reference number：06A0450742

Preparation of Boron Containing Thin Films by Magnetron Sputtering Method and Evaluation of Their Mechanical Properties-Influences of Reactive Gas Addition-

マグネトロンスパッタリング法によるホウ素含有薄膜の創成とその機械的特性の評価-反応ガス添加の影響-

Author (1)： KOZAKI MASAO (東海大)
Material： 精密工学会誌(CD-ROM)  (精密工学会誌論文集)
Volume： 72  Issue： 6  Page： 756-760  Publication year： Jun. 05, 2006 
JST Material Number： F0268B  ISSN： 1348-8716  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *boron compound ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Vapor plating  (WC08022K)

Reference (14)：

• REIGADA, D. C. Boron carbide films deposited by a magnetron sputter-ion plating process : film composition and tribological properties. Diamond Relat. Mater. 2000, 9, 489
• WU, M.-L. Process-property relationship of boron carbide thin films by magnetron sputtering. Thin Solid Films. 2004, 449, 120
• LIU, A. Y. Prediction of new low compressibility solids. Science. 1989, 245, 841
• LIU, A. Y. Structural properties and electronic structure of low-comperssibility materials : β-Si_3N_4 and hypothetical β-C_3N_4. Phys. Rev. B. 1990, 41, 15, 10727
• ROBERTSON, J. Deposition mechanism of cubic boron nitride. Diamond Relat. Mater. 1996, 5, 519

Terms in the title (7)： マグネトロンスパッタリング ,  ホウ素 ,  薄膜 ,  創成 ,  機械的特性 ,  評価 ,  反応ガス