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J-GLOBAL ID：200902284488794620   Reference number：08A0943576

30nm以下フィルターの除粒子性能評価方法とろ過操作条件

Author (4)： MIZUNO TAKEHITO (日本ポール) ,  NAMIKI AKIHISA (日本ポール) ,  TSUZUKI SHUICHI (日本ポール) ,  NUMAGUCHI TOORU (日本ポール)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 69th  Issue： 2  Page： 697  Publication year： Sep. 02, 2008 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： wafer ,  cleaning device ,  *nanofiltration ,  filter material ,  polytetrafluoroethylene ,  efficiency ,  colloid ,  fine particle ,  gold ,  *particle size distribution ,  performance evaluation ,  semiconductor process
Semi thesaurus term： colloid particle ,  removal efficiency

JST classification (2)： Filtration,centrifugation  (XD02050X) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (3)： フィルター ,  性能評価 ,  ろ過操作