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J-GLOBAL ID：200902287073110741   Reference number：07A0342672

Inhibition of Hyphal Growth of the Fungus Alternaria alternata by Chlorine Dioxide Gas at Very Low Concentrations

極低濃度二酸化塩素ガスによる真菌Alternaria alternataの菌糸成長抑制

Author (4)： MORINO HIROFUMI (大幸薬品(株)) ,  MATSUBARA AKANE (大幸薬品(株)) ,  FUKUDA TOSHIAKI (大幸薬品(株)) ,  SHIBATA TAKASHI (大幸薬品(株))
Material： 薬学雑誌  (Journal of the Pharmaceutical Society of Japan)
Volume： 127  Issue： 4  Page： 773-777 (J-STAGE)  Publication year： 2007 
JST Material Number： F0508A  ISSN： 0031-6903  CODEN： YKKZAJ  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *chlorine dioxide ,...
Semi thesaurus term： *Alternaria alternata ,...

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JST classification (1)： Basic research of antifungal drugs  (GW17060K)

Reference (17)：

• 1) Al-Doory Y., Domson J. F., “Mould Allergy,” Lea & Febiger, Philadelphia, 1984.
• 2) Hamada N., Yamada A., J. Antibact. Antifung. Agents, 21, 6-18 (1993).
• 3) Takatori K., Environ. Building Services, 110, 385-389 (2005).
• 4) Budavari S., O'Neil M. J., Smith A., Heckelman P. E., Kinneary J. F., “The Merck Index-An Encyclopedia of Chemicals, Drugs, and Biologicals,” 13th ed. Merck Research Laboratories, Whitehouse Station, NJ, 2001.
• 5) Gates D., “The Chlorine Dioxide Handbook-Water Disinfection Series,” American Water Works Association, Denver, 1998.

Terms in the title (7)： 低濃度 ,  酸化 ,  塩素ガス ,  真菌 ,  Alternaria ,  菌糸 ,  成長抑制