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J-GLOBAL ID：200902287297670963   Reference number：07A0473616

Annealing-induced interfacial toughening using a molecular nanolayer

分子ナノレイヤーを用いたアニール誘起界面高靭性化

Author (8)： GANDHI Darshan D. (Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA) ,  LANE Michael (IBM Microelectronics, New York, USA) ,  ZHOU Yu (Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA) ,  SINGH Amit P. (Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA) ,  NAYAK Saroj (Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA) ,  TISCH Ulrike (Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa, ISR) ,  EIZENBERG Moshe (Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa, ISR) ,  RAMANATH Ganapathiraman (Rensselaer Polytechnic Inst., New York, USA)
Material： Nature (London)  (Nature (Lond))
Volume： 447  Issue： 7142  Page： 299-302  Publication year： May. 17, 2007 
JST Material Number： D0193B  ISSN： 0028-0836  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *layer ,...
Semi thesaurus term： crosslinking ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： 分子 ,  レイヤー ,  アニール ,  誘起 ,  界面 ,  高靭性化