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J-GLOBAL ID：200902287389542481   Reference number：06A1030924

Formation of Nickel Hydroxide Thin Layer on the Surface of Nickel Electrode

Ni電極表面におけるNi水酸化物膜の生成

Author (10)： KODAMA AYUMI (お茶の水女大) ,  IKEDA HIROKO (福島県医大) ,  NAKASE CHIHO (お茶の水女大) ,  MASUDA TAKAKO (東京医大) ,  KITAHARA KEIICHI (東京医大) ,  ARAI SADAO (東京医大) ,  ONUMA YOSHIO (小沼技研) ,  HAYASHI KOJI (東大 生産技研) ,  YAMASHITA JUNZO (お茶の水女大) ,  AIKAWA YOSHIHIRO (お茶の水女大)
Material： 材料と環境  (Corrosion Engineering of Japan)
Volume： 55  Issue： 12  Page： 544-548  Publication year： Dec. 15, 2006 
JST Material Number： F0006A  ISSN： 0917-0480  CODEN： ZAKAEP  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *nickel ,...
Semi thesaurus term： *anodic oxidation

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JST classification (1)： Basic corrosion theory and corrosion test  (WB03020Q)

Reference (24)：

• BOCKRIS, J. O'M. Modern Electrochemistry. 1977, 2, 754, 769, 777
• BARD, A. J. Electrochemical Methods Fundamentals and Applications. 1980, 10
• MORRISON, S. R. Electrochemistry at Semiconductor and Oxidized Metal Electrodes. 1980, 299
• TOMASHOV, N. D. Theory of Corrosion and Protection of Metals. 1967, 42
• MACDOUGALL, B. J. Electrochem. Soc. 1974, 121, 9, 1152

Terms in the title (3)： Ni電極 ,  Ni ,  酸化物膜