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J-GLOBAL ID：200902288123086886   Reference number：03A0310450

電子線励起軟X線発光分光によるSi酸化物/Si界面の評価

Author (4)： KASHIWAKURA TAKAYUKI (宇都宮大 工) ,  YOSHIDA TADAHIRO (宇都宮大 工) ,  MEGURO KOICHI (宇都宮大 工) ,  NAKAI SHUN'ICHI (宇都宮大 工)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 50th  Issue： 2  Page： 705  Publication year： Mar. 27, 2003 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *X-ray spectrometry ,...

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JST classification (1)： Study of adsorption by physical means  (CB12043P)

Terms in the title (6)： 電子線励起 ,  軟X線発光分光 ,  Si酸化物 ,  Si ,  界面 ,  評価