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J-GLOBAL ID：200902290317363940   Reference number：08A0263427

P-CVD法で形成したDLC膜の特性に及ぼす熱処理の影響

Author (3)： ITO TAKASHI (関西大 大学院工学研究科) ,  NAGAI TATSUYA (関西大 大学院工学研究科) ,  SUGIMOTO TAKASHI (関西大 化学生命工)
Material： 熱処理  (Journal of the Japan Society for Heat Treatment)
Volume： 48  Issue： 1  Page： 26-31  Publication year： Feb. 28, 2008 
JST Material Number： G0963A  ISSN： 0288-0490  CODEN： NESHDF  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *DLC film ,  plasma CVD ,  *postheating ,  *vacuum treatment ,  residual stress ,  surface roughness ,  relative density ,  hardness ,  Raman spectrum ,  content (quantity) ,  Hydrogen ,  temperature dependence

JST classification (1)： Carbon and its compounds  (YB02060D)

Reference (10)：

• 鈴木秀人. 事例で学ぶDLC成膜技術. 2003
• JAKOB, W. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 1771
• ROBERTSON, J. Philos. Mag. B. 1997, 76, 334
• FERRARI, A. C. Phys. Rev., B. 2000, B61, 14095
• CASIRAGHI, C. Phys. Rev., B. 2005, B72, 085401

Terms in the title (3)： CVD法 ,  DLC膜 ,  熱処理