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J-GLOBAL ID：200902292441930340   Reference number：05A0252152

TiN deposition and ion current distribution for trench target by plasma-based ion implantation and deposition

プラズマベースイオン注入堆積法によるトレンチターゲットに対するイオン電流分布とTiN堆積

Author (3)： YUKIMURA K (Doshisha Univ., Kyoto, JPN) ,  MA X (Harbin Inst. of Technol., Harbin, CHN) ,  IKEHATA T (Ibaraki Univ., Ibaraki, JPN)
Material： Surface & Coatings Technology  (Surf Coat Technol)
Volume： 193  Issue： 1/3  Page： 17-21  Publication year： Apr. 01, 2005 
JST Material Number： D0205C  ISSN： 0257-8972  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ion implantation ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (8)： プラズマ ,  イオン注入 ,  堆積 ,  トレンチ ,  ターゲット ,  イオン ,  電流分布 ,  TiN