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J-GLOBAL ID：200902292921445701   Reference number：06A0896426

Characterization of neutral species densities in dual frequency capacitively coupled photoresist ash plasmas by optical emission actinometry

発光光量測定による二重周波数容量結合フォトレジスト灰プラズマにおける中性種密度の特性評価

Author (4)： WORSLEY M. A. (Dep. of Chemical Engineering, Stanford Univ., Stanford, California 94305) ,  BENT S. F. (Dep. of Chemical Engineering, Stanford Univ., Stanford, California 94305) ,  FULLER N. C. M. (Semiconductor Res. and Dev. Center, IBM Res. Div., Yorktown Heights, New York 10598) ,  DALTON T. (Semiconductor Res. and Dev. Center, IBM Res. Div., Yorktown Heights, New York 10598)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 100  Issue： 8  Page： 083301-083301-10  Publication year： Oct. 15, 2006 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ashing ,...
Semi thesaurus term： Dissociation reaction

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Plasma in general  (BJ02010B)

Terms in the title (8)： 光量測定 ,  二重周波数 ,  容量結合 ,  フォトレジスト ,  灰 ,  プラズマ ,  中性 ,  特性評価