Art

J-GLOBAL ID：200902293999686370   Reference number：09A0136167

New Approach to Fabrication of Minute Columnar and Ring Patterns with ZnS, SiO₂, and Zn

ZnS,SiO₂,Znによる微細な柱状及び環状パターン作製の新しい手法

Author (1)： MORI Tetsuji (RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 48  Issue： 1  Page： 010221.1-010221.3  Publication year： Jan. 25, 2009 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *micro structure ,  silicon dioxide ,  zinc sulfide ,  Zinc ,  lithography ,  *pattern formation ,  optical absorption ,  *pulsed laser irradiation ,  laser ablation ,  etching ,  micromachining ,  wet etching
Semi thesaurus term： wet etching

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (12)：

• E. Yablonovitch: Phys. Rev. Lett.58(1987)2059.
• S. John: Phys. Rev. Lett.58(1987)2486.
• D. C. Flanders: Appl. Phys. Lett.42(1983)492.
• H. Kikuta, H. Toyota, and W. Yu: Opt. Rev.10(2003)63.
• M. Takeda, M. Furuki, T. Ishimoto, K. Kondo, M. Yamamoto, and S. Kubota: Jpn. J. Appl. Phys.39(2000)797.

Terms in the title (6)： ZnS ,  SiO2 ,  Zn ,  環状 ,  作製 ,  手法